CVD-1700系統(tǒng)由SGL-1700真空管式爐，HQF-Ⅲ浮子混氣系統(tǒng)，內(nèi)置測溫系統(tǒng)及真空系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結(jié)溫度可達(dá)1700℃；真空泵采用雙極旋片真空泵，真空度可達(dá)到5x10-1Pa；可實(shí)現(xiàn)不同的1~3路氣體混合；內(nèi)置測溫系統(tǒng)可實(shí)時(shí)監(jiān)測反應(yīng)管內(nèi)的溫度變化。 | |
主要功能和特點(diǎn)： 1、高真空系統(tǒng)由雙級(jí)旋片真空泵和分子泵組成，最高真空可達(dá)0.0001Pa； 2、可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實(shí)現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制； 3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì)，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。 4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用Swagelok卡套連接，不漏氣； 5、超溫、過壓時(shí)，自動(dòng)切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣，使用安全可靠。 | |
主要用途： 高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD/CVI實(shí)驗(yàn)，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結(jié)等場所。 | |
主要技術(shù)參數(shù)： | |
SGL-1700真空管式爐 | 雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫； 日本技術(shù)真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好 加熱元件采用進(jìn)口優(yōu)質(zhì)U型硅鉬棒，表面負(fù)荷高，大大提高了其使用壽命 |
電壓 | AC220V 50/60Hz |
功率 | 6KW |
爐管 | 采用99氧化鋁剛玉管，致密度高，經(jīng)久耐用，不易斷裂 尺寸：Φ40/60/80*/1000mm 4個(gè)氧化鋁管堵 |
法蘭及支撐 | SUS304不銹鋼快速水冷法蘭，長期水冷無腐蝕 一個(gè)卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷 可調(diào)節(jié)的法蘭支撐，平衡爐管的受力支撐 包含進(jìn)氣、出氣、真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合，4個(gè)密封硅膠圈等 |
加熱系統(tǒng) | 加熱元件：6根U型硅鉬棒 加熱區(qū)長度：280mm 恒溫區(qū)長度：100mm 工作溫度：≤1600℃ 最高溫度：1650℃ 升溫速率：≤10℃/min |
溫控系統(tǒng) | 溫度控制采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能 50段升降溫程序 測溫元件：B型雙鉑銠熱電偶 恒溫精度：±1℃ |
HQF-Ⅲ混氣系統(tǒng) | 三路浮子流量計(jì)配置在移動(dòng)工作臺(tái)上，可以同時(shí)通入三路不同的氣體 內(nèi)置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥 管路采用聚四氟乙烯軟管，耐溫耐腐 每路氣體進(jìn)氣管路配有不銹鋼針閥 流量規(guī)格：0.3~3L/min 控制精度：±5% |
低真空系統(tǒng) | 采用雙極旋片真空泵，真空度可達(dá)5x10-1 Torr 不銹鋼充油真空壓力表，良好的抗震性 |
內(nèi)置測溫系統(tǒng) | 測溫元件可從加熱區(qū)邊緣延伸至溫區(qū)中心 法蘭密封，保證爐管的密封性 測溫元件：B型雙鉑銠熱電偶 |
尺寸 | 高溫爐：660*580*910mm 混氣移動(dòng)工作臺(tái)：800*540*720mm |
可選配件 | HQZ混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng)，各種剛玉坩堝，剛玉管，計(jì)算機(jī)控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀，冷卻水循環(huán)機(jī)等。 |
