在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場(chǎng)，使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電，在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場(chǎng)的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，并發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成介質(zhì)膜，副產(chǎn)物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱(chēng)為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉(PECVD)。 PECVD開(kāi)啟式管式爐系統(tǒng)由開(kāi)啟式管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成，是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇。 | ||
主要功能和特點(diǎn)： 1、PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好、針孔較少、不易龜裂等； 2、PECVD工藝中由于等離子體中高速運(yùn)動(dòng)的電子撞擊到中性的反應(yīng)氣體分子，就會(huì)使中性反應(yīng)氣體分子變成碎片或處于激活的狀態(tài)容易發(fā)生反應(yīng)； 3、借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜； 4、高真空系統(tǒng)由雙級(jí)旋片真空泵和分子泵組成，最高真空可達(dá)0.001Pa； 5、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì)，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測(cè)量和控制； 6、每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性； 7、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷； 8、管路采用Swagelok卡套連接，不漏氣； 9、超溫、過(guò)壓時(shí)，自動(dòng)切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣，使用安全可靠。 | ||
主要用途： 高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長(zhǎng)薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。 | ||
技術(shù)參數(shù)： | ||
SKGL-1200 開(kāi)啟式管式爐 | 控溫方式 | 采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。 |
加熱元件 | 0Cr27Al7Mo2 | |
工作電源 | AC220V 50Hz/60Hz | |
額定功率 | 4kw | |
爐管材質(zhì) | 高純石英管 | |
爐管尺寸 | Φ60/Φ80*1200mm | |
工作溫度 | ≤1150℃ | |
最高溫度 | 1200℃ | |
恒溫精度 | ±1℃ | |
恒溫區(qū) | 200mm | |
升溫速度 | ≤10℃/min | |
密封方式 | 不銹鋼快速法蘭擠壓密封 | |
ZK-F 分子泵真空系統(tǒng) | 真空范圍 | 0.1-0.001Pa |
極限真空 | 4.0*10^-4Pa | |
產(chǎn)品配置 | 雙級(jí)旋片真空泵+分子泵 | |
測(cè)量方式 | 復(fù)合真空計(jì) | |
真空規(guī)管 | 電阻規(guī)+電離規(guī) | |
冷卻方式 | 風(fēng)冷 | |
工作電源 | AC220V 50/60HZ | |
抽速 | 110L/S | |
射頻電源系統(tǒng) | 射頻功率輸出范圍 | 5~500W |
射頻頻率 | 13.56MHz±0.005% | |
噪聲 | ≤55DB | |
冷卻方式 | 風(fēng)冷 | |
功率溫定度 | ± 0.1% | |
HQZ-Ⅳ 混氣系統(tǒng) | 流量規(guī)格 | 0－200sccm （可根據(jù)客戶(hù)需要配置） |
線性 | ±1.5%F.S | |
準(zhǔn)確度 | ±1.5%F.S | |
重復(fù)精度 | ±0.2%F.S. | |
響應(yīng)時(shí)間 | ≤8sec | |
耐壓 | 3MPa | |
氣路通道 | 4通道（根據(jù)客戶(hù)需求） | |
針閥 | 316不銹鋼 | |
管道 | Φ6mm不銹鋼管 | |
接口 | SwagelokΦ6mm | |
